Производство микроскопов и инспекционных систем на их основе.

Комплекс автоматизированный МА 300

  Автоматизированный комплекс для контроля ИМС на полупроводниковых пластинах диаметром до 300 мм применяется в производстве изделия электронной техники для контроля элементов топологического рисунка в видимой и ультрафиолетовой (l = 365 нм) области спектра.

    Работа в ультрафиолетовой области спектра, увеличило разрешающую способность комплекса, что в свою очередь позволяет осуществлять контроль критических размеров элементров топологии (свыше 0,3 мкм) в технологическом производстве ИМС на пластинах диаметром 300 мм.

   Комплекс оснащен системой наблюдения и передачи изображения, что позволяет получать изображение на экране монитора и производить компьютерный анализ изображения.

    Комплекс может применяться также на контрольных операциях в других областях науки и техники.