Высокоразрешающий комплекс ГУФ

Комплекс высокоразрешающий аналитический, работающий в ультрафиолетовой области спектра с функцией наблюдения в видимой и УФ (λ=248 нм) областях спектра.

Комплекс высокоразрешающий аналитический, работающий в ультрафиолетовой области спектра ГУФ предназначен для контроля структур ИМС на полупроводниковых пластинах диаметром до 200 мм при производстве изделий электронной техники (ИЭТ) для работы в видимой и ультрафиолетовой областях спектра (λ=248 нм).

Использование источника света с длиной волны λ=248 нм на данном комплексе позволяет повысить разрешающую способность и контролировать на полупроводниковых пластинах слабоконтрастные элементы размером 180 нм и более.

Объективы	Линейное поле зрения		Визуальная разрешающая способность, лин/мм, не менее	Увеличение
Объективы	с окулярами 10^х, мм, не менее	мм, не менее	Визуальная разрешающая способность, лин/мм, не менее	Увеличение
5^х / 0,15 BD	4.40	-	400	50
10^х / 0,25 BD	2.20	-	700	100
20^х / 0,45 BD	1.1	-	1200	200
50^х / 0,8 BD	0.42	-	1800	500
100^х / 0,9 BD	0.21	-	2400	1000
100^х / 0,9 ГУФ	-	0.15	4800	*

Примечание: *- Увеличения для ультрафиолетовой области спектра на мониторе зависят от размеров матриц монитора и видеокамеры.